日本結晶学会誌Vol55No3 page 13/82

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概要：
日本結晶学会誌Vol55No3

表面界面に埋め込まれたナノスケール薄膜・ナノワイヤーの定量的構造研究16）T. Takahashi and S. Kikuta: J. Phys. Soc. Japan 47, 620 (1979).17）K. Akimoto, T. Ishikawa, T. Takahashi and S. Kikuta: Jpn J. Appl.Phys. 24, 1425 (1985).18）T. Ohta, H. Sekiyama, Y. Kitajima, H. Kuroda, T. Takahashiand S. Kikuta: Jpn J. Appl. Phys. 24, L475 (1985).19）M. Sugiyama, S. Maeyama and M. Oshima: Phys. Rev. Lett. 71,2611 (1993).20）T. Takahashi and M. Takahasi: Jpn. J. Appl. Phys. 32, 5159 (1993).21）坂田修身：日本結晶学会誌47, 371 (2005).22）O. Sakata and M. Nakamura:“Surface Science Techniques”, p.165,Springer (2013).23）J. Zegenhagen and A. Kazimirov (editors):“X-RAY STANDINGWAVE TECHNIQUE: Principles and Applications”, World Scientific(2013).24）T. Matsushita, E. Arakawa, W. Voegeli and Y. F. Yano: J.Synchrotron Rad. 20, 80 (2013).25）田尻寛男,高橋敏男：日本放射光学会誌22, 131 (2009).26）J. Zegenhagen: Surf. Sci. Rep. 18, 199 (1993).27）橋爪弘雄,坂田修身：日本結晶学会誌31, 249 (1989).28）O. Sakata and H. Hashizume: Rep. Res. Lab. Eng. Mat. Tokyo Inst.Tech. 12, 45 (1987).29）S. Kishino and K. Kohra: Jpn. J. Appl. Phys. 10, 551 (1971).30）S. Kishino, A. Noda and K. Kohra: J. Phys. Soc. Japan 33, 158(1972).31）O. Sakata and H. Hashizume: Jpn. J. Appl. Phys. 27, L1976 (1988).32）O. Sakata and T. Jach: X-RAY STANDING WAVE TECHNIQUE:Principles and Applications, p.108, World Scientific (2013).33）T. Jach and M. J. Bedzyk: Acta Cryst. A 49, 346 (1993).34）H. R. Hoche, O. Brummer and J. Nieber: Acta Cryst. A 42, 585(1986).35）O. Sakata and H. Hashizume: Acta Cryst. A 51, 375 (1995).36）O. Sakata, H. Hashizume and H. Kurashina: Phys. Rev. B 48, 11408(1993).37）O. Sakata, Y. Tanaka, A. M. Nikolaenko and H. Hashizume: J.Synchrotron Rad. 5, 1222 (1998).38）O. Sakata, N. Matsuki and H. Hashizume: Phys. Rev. B 60,15546 (1999).39）N. Jedrecy, M. Sauvage-Simkin, R. Pinchaux, J. Massies, N. Greiserand V. H. Etgens: Surf. Sci. 230, 197 (1990).40）O. Sakata and H. Hashizume: Acta Cryst. A 53, 781 (1997).41）Guinier: X-ray diffraction In crystals, imperfect crystals, andamorphous bodies, p.128, Dover publications (1994).42）O. Sakata, M. Takata, H. Suematsu, A. Matsuda, S. Akiba, A.Sasaki and M. Yoshimoto: Appl. Phys. Lett. 84, 4239 (2004).43）O. Sakata, W. Yashiro, D. R. Bowler, A. Kitano, K. Sakamotoand K. Miki: Phys. Rev. B 72, 121407(R) (2005).44）O. Sakata and M. Nakamura: Appl. Surf. Sci. 256, 1144 (2009).45）O. Sakata, T. Watanabe and H. Funakubo: J. Appl. Cryst. 44,385 (2011).46）O. Sakata, S. Yasui, T. Yamada, M. Yabashi, S. Kimura and H.Funakubo: AIP Conf. Proc. 1234, 151 (2010).47）坂田修身,木村滋：薄膜の評価技術ハンドブック, p.153 (2013).プロフィール坂田修身Osami SAKATA（独）物質・材料研究機構中核機能部門高輝度放射光ステーションSynchrotron X-ray Station at SPring-8,Research Network and Facility ServicesDivision, National Institute for MaterialsScience（NIMS）〒679-5148兵庫県佐用郡佐用町光都1-1-1SPring-8, 1-1-1, Kouto, Sayo-cho, Sayogun,Hyogo 679-5148, Japan（外部連携所属：国立大学法人東京工業大学大学院総合理工学研究科物質科学創造専攻）e-mail: SAKATA.Osami@nims.go.jp専門：薄膜X線回折現在の研究テーマ：ナノスケール構造体,薄膜の原子配列構造や電子構造の解析日本結晶学会誌第55巻第3号（2013）179